形状测量激光显微系统
VK-X4000 系列
测量头 VK-X4100
规格
型号 | VK-X4100 | |||
类型 | 测量头 | |||
综合倍率 | 42 至28800 倍 *1 | |||
视野范围 | 11 至7398 μm | |||
测量原理 | 激光共聚焦、聚焦变化、白光干涉、分光干涉 | |||
激光光源波长 | 半导体激光404 nm | |||
最高激光测量速度 | 面:125 Hz、线:7900 Hz *2 | |||
激光最大输出 | 1.0 mW | |||
激光等级 | 2 类激光产品(GB7247.1) | |||
激光受光元件 | 16 bit 感应光电倍增器 | |||
白色光源 | 白色LED | |||
白色光受光元件 | 超高精细彩色CMOS | |||
激光共聚焦 | 高度显示分辨率 | 0.1 nm | ||
高度重复精度 σ | 10 倍:100 nm、20 倍:40 nm、50 倍:12 nm | |||
高度准确性 | 0.2+L/100 μm 以下 *3 | |||
宽度显示分辨率 | 0.1 nm | |||
宽度重复精度 3σ | 10 倍:200 nm、20 倍:100 nm、50 倍:40 nm | |||
宽度准确性 | 测量值±2% 以内 *3 | |||
聚焦变化 | 高度显示分辨率 | 0.1 nm | ||
高度重复精度 σ | 5 倍:500 nm、10 倍:100 nm、20 倍:50 nm、50 倍:20 nm | |||
高度准确性 | 0.2+L/100 μm 以下 *3 | |||
宽度显示分辨率 | 0.1 nm | |||
宽度重复精度 3σ | 5 倍:400 nm、10 倍:400 nm、20 倍:120 nm、50 倍:50 nm | |||
宽度准确性 | 测量值±2% 以内 *3 | |||
白光干涉 | 高度显示分辨率 | 0.01 nm | ||
宽度显示分辨率 | 0.1 nm | |||
Surface Topography Repeatability | 0.08 nm *4 | |||
Repeatability of RMS | 0.008 nm *4 | |||
分光干涉膜厚测量 | 重复精度 σ | 0.1 nm *4 | ||
准确性 | ±0.6% *4 | |||
光学观察 | 像素数 | 560 万 | ||
转换器 | 6 孔电动镜头转换器 | |||
适用于环形照明的镜头 | 2.5 倍、5 倍、10 倍 | |||
光学变焦 | 1 至8 倍 | |||
电源 | 电源电压 | 100 至240 VAC、50/60 Hz | ||
消耗功率 | 150 VA | |||
环境抗耐性 | 环境温度 | +15 至28°C | ||
相对湿度 | 20 至80% RH(无凝结) | |||
重量 | 约13 kg | |||
*1 23 寸显示器画面上的倍率(全屏显示时) | ||||